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[ACS AMI] Accept

​본 연구실 김희준 학생의 논문

​

"Modulation of Al/Cu2O Schottky Barrier Height for p-Type Oxide TFTs using Polyethylenimine interlayer​"


ACS Applied Materials & Interfaces

[JCR IF: 8.758] 지에 Accept 되었습니다.

축하합니다.  ​